질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76815 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20244 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68737 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92573 |
| 19 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95707 |
| 18 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
| 17 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24350 |
| 16 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18547 |
| 15 | In-flight plasma process | 15505 |
| 14 | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14474 |
| 13 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10365 |
| 12 | RPSC 관련 질문입니다. [2] | 4030 |
| 11 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2392 |
| 10 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2018 |
| 9 | Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] | 1951 |
| 8 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1196 |
| 7 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1187 |
| 6 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1]  | 1175 |
| 5 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1049 |
| 4 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 760 |
| 3 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 582 |
| 2 | 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] | 443 |
| 1 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 | 4 |