Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:6303

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77036
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20355
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57276
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68822
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92823
501 MFP에 대해서.. [1] 7831
500 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7712
499 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7668
498 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7660
497 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7293
496 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7122
495 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6746
494 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6695
493 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6572
492 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
491 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6501
490 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6500
489 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6475
488 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6457
487 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6449
486 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6420
485 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
484 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6370
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6303
482 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6294
쓰기
태그

Boards

XE Login