ESC ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
2014.06.03 09:05
안녕하세요.
식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요.
최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.
첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.
BIPOLAR ESC구요. Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.
이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....
바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76746 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20216 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92304 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 28 |
| 788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 46 |
| 787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 54 |
| 786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 60 |
| 785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 65 |
| 784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 72 |
| 783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
| 782 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 88 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 89 |
| 780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 101 |
| 779 | Microwave & RF Plasma [1] | 116 |
| 778 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 118 |
| 777 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 119 |
| 776 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 124 |
| 775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 132 |
| 774 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 137 |
| 773 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 139 |
| 772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 141 |
| 771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 149 |
| 770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 154 |