Deposition magnetic substrate와 플라즈마 거동
2018.12.19 21:30
안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.
이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.
그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.
이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.
제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.
그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.
혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
댓글 3
-
김곤호
2018.12.23 10:46
-
홍석모
2018.12.24 14:12
먼저 빠른 답변 감사드립니다.
역시 쉽게 생각할수 있는 문제가 아니었나 봅니다...
실험을 통해 연관성 있는 결과를 얻게 된다면 여기에도 남기도록 하겠습니다.
감사합니다. 그럼 즐거운 성탄절 그리고 연말 보내시기를 바라겠습니다.
-
김곤호
2018.12.24 23:46
저온 플라즈마 관련해서 공부가 필요하면 이번 PSES-net에 지도교수님 추천하에 신청하고 교육을 받아 보세요. 3박4일동안 진행되는 프로그램이며, 강의 내용과 신청 방법은 홈페이지 상단에서 확인할 수 있습니다. 전국 플라즈마 관련 연구하는 대학원생들에게 수강료 없이 진행되는 교육 프로그램입니다. 동료들과 교류도 진작할 수가 있겠습니다.
지도교수님과 풀 문제로 보입니다. 일반적으로 재료의 전기적 특성이 바뀌는 경우, 대면재료의 표면 전하의 변화 및 이차전자 방출 특성 차이로 인하여 플라즈마 특성, 전위 와 밀도 이로 부터 플라즈마 쉬스 특성의 변화는 예상할 수가 있겠습니다만, 관건은 박막 재료가 갖는 전기적 특성의 변화 요인과 그 재료의 특성이 박막 형성 시 어떤 영향을 미치게 될 것인가에 대해서는 표면 물리에서 다룰 문제로 보이는 군요. 귀결이 매우 궁금하니 관련해서 진도가 나가면 본 계시판에도 소개글을 올려 주세요.