안녕하십니까? 대학원에서 플라즈마 상태에 따른 박막의 특성을 연구하고 있는 학생입니다.

현재 연구실에서 OES를 사용하고 있는데, 분석 법 중에서 Actinometry 법 외에 excitation temperature를 구할 수 있는 것을 뒤늦게서야 알게 됐습니다.

몇몇 논문을 봤을 때 랭뮤어 탐침 법으로 electron temperature를 구하고, OES로 excitation temperature를 구한 결과를 비교했을 때 같은 경향성을 나타낸다고 봤습니다. 

여기서 몇 가지 질문할 사항이 있습니다.

1. 그렇다면 OES를 통해 확인하고자 하는 species의 excitation temperature를 구하여, species가 플라즈마 내에서 대략적으로 어떠한 상태인지를 경향성을 확인할 수 있지 않나요?

2. 그리고 electron temperature와 excitation temperature의 차이를 명확하게 모르겠습니다. 간단하게 설명을 부탁드릴 수 있을까요?


감사합니다!.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73076
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17641
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65729
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86104
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 546
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5834
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1202
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 945
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2276
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2608
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 604
480 wafer bias [1] 912
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 995
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 401
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1496
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 909
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1444
474 PEALD관련 질문 [1] 22138
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1505
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2539
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 899
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 553
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3189
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 345

Boards


XE Login