질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88302 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75018
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18859
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56340
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66840
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88302
479 charge effect에 대해 [2] 1305
478 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1306
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1306
476 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1310
475 Ar plasma power/time [1] 1316
474 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1319
473 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1320
472 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1328
471 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1335
470 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1342
469 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1342
468 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1351
467 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1352
466 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1361
465 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1382
464 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1390
463 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1395
462 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1402
461 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1424
460 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1427
쓰기
태그

Boards

XE Login