반도체 공정과 관련하여 DIFF 공정 진행 간, TEMP와 RF 간에 상관 관계가 궁금하여 문의 드립니다.

NH3의 분해와 관련하여 상온 기준 RF POWER를 인가한다고 했을때 분해 가능한 수준이 어느 정도인지 궁금합니다.(W 기준)

그리고 추가로 문의 드리고 싶은 사항은 TEMP와 RF 간에 상관 관계입니다. TEMP가 변화하는 정도에 따른 RF의 변화 정도가 어떻게 되는지 궁금해서 문의 드립니다.

정답이 힘들다면 참고 및 이해할 수 있는 답변을 좀 부탁 드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76794
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92495
511 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9523
510 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9518
509 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9262
508 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9243
507 안녕하세요 교수님. [1] 9038
506 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8989
505 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8926
504 수중플라즈마에 대해 [1] 8745
503 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8727
502 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8669
501 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8620
500 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8605
499 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8580
498 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8576
497 핵융합에 대하여 8564
496 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8399
495 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8133
494 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8123
493 고온 플라즈마 관련 8090
492 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8044

Boards


XE Login