질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:83574 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4913
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16254
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63759
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83574
379 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2024
378 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2027
377 Plasma etcher particle 원인 [1] 2032
376 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2046
375 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2053
374 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2068
373 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2078
372 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2111
371 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2113
370 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2115
369 임피던스 매칭회로 [1] file 2121
368 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2133
367 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2133
366 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2308
365 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2364
364 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2368
363 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2401
362 PR wafer seasoning [1] 2403
361 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2406
360 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2415

Boards


XE Login