안녕하세요. 

식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요. 

최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.

첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.

BIPOLAR ESC구요.  Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.

이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....

바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20211
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
489 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
488 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1464
487 charge effect에 대해 [2] 1465
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1488
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1500
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1507
483 plasma 형성 관계 [1] 1517
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1518
481 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1518
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1562
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1599
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1603
476 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1609
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1609
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1646
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
472 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1678

Boards


XE Login