Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:2016

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76868
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92693
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2025
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1049
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1973
474 PEALD관련 질문 [1] 32638
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2268
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3553
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1078
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 723
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3991
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 428
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2351
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1164
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1355
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 958
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2016
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2435
461 Wafer particle 성분 분석 [1] 2330
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2865
459 charge effect에 대해 [2] 1475
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1520
쓰기
태그

Boards

XE Login