다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103067
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61469
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105887
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1213
512 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1054
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 20049
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1100
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4220
508 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1341
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1561
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3741
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 794
504 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2059
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2605
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher] [1] 14083
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 3058
500 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1470
499 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3353
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 855
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2103
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2074
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 4432
494 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1437

Boards


XE Login