질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:86006 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72994
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17584
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65685
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86006
365 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2631
364 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2648
363 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 2711
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2735
361 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2765
360 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2788
359 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2805
358 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2832
357 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2858
356 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2869
355 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2920
354 Descum 관련 문의 사항. [1] 2926
353 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2946
352 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2984
351 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3054
350 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3086
349 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3108
348 ESC Cooling gas 관련 [1] 3138
347 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3144
346 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3173

Boards


XE Login