질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93631 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
479 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1694
478 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1706
477 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1712
476 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1715
475 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1744
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1749
473 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1753
472 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1763
471 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1774
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1787
469 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1797
468 터보펌프 에러관련 [1] 1815
467 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1829
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1842
465 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1867
464 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1888
463 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1897
462 가입인사드립니다. [1] 1900
461 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1901
460 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1913
쓰기
태그

Boards

XE Login