질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105796 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102741
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24677
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61391
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73462
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105796
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2098
472 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2101
471 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2132
470 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2133
469 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2140
468 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching] [1] 2157
467 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2200
466 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 2200
465 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2225
464 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2243
463 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2273
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias] [1] 2274
461 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지] [1] 2287
460 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화] [1] 2292
459 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 2309
458 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] 2338
457 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy] [2] 2366
456 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2383
455 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계] [1] 2387
454 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2393
쓰기
태그

Boards

XE Login