Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1462

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films31(5), 050825.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [131] 5633
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16938
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51356
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64231
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84429
31 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1247
30 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1261
29 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1437
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1462
27 터보펌프 에러관련 [1] 1507
26 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1518
25 etching에 관한 질문입니다. [1] 1582
24 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1848
23 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1890
22 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2133
21 Plasma etcher particle 원인 [1] 2166
20 PR wafer seasoning [1] 2453
19 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2482
18 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2912
17 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3517
16 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3542
15 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3620
14 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3836
13 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4083
12 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4951

Boards


XE Login