Others 잔류시간 Residence Time에 대해
2021.06.08 10:34
안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.
항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.
다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.
저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,
이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.
같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데
이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] | 2566 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 13694 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 49691 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 61641 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 80272 |
640 | Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 | 254 |
639 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 255 |
638 |
플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor
[1] ![]() | 255 |
637 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 255 |
636 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 276 |
» | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 280 |
634 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 282 |
633 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 282 |
632 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 285 |
631 |
입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate
![]() | 288 |
630 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 292 |
629 | 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] | 301 |
628 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 301 |
627 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 303 |
626 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 310 |
625 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 311 |
624 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 316 |
623 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 316 |
622 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 317 |
621 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 321 |
다음 식으로 어름잡아 보시기 바랍니다. 반응기 (chamber) 내에서의 입자들 체류시간 (혹은 잔류시간 residence time)은 반응기 부피를 펌프의 배기속도 (liter/time) 로 나누어 구할 수 있습니다. 이는 입자가 반응기 전체에 균일하게 분포되어 있을 경우로서, 시료 표면에 잔류하고 있는 시간과는 차이가 있을 수 있을 것 같습니다. 따라서 표면에서 유속에 대한 정보가 얻어지면 공정 분포를 이해하는데 보다 도움이 될 수 있겠습니다. (유체해석 코드를 이용해 보시기 바랍니다)