질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91227 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [252] 76385
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19968
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57056
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68521
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91227
391 PR wafer seasoning [1] 2685
390 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6531
389 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 609
388 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1851
387 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1720
386 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2822
385 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 976
384 ICP 후 변색 질문 711
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 2881
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2249
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 337
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4262
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1004
378 고진공 만드는방법. [1] 988
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 421
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 680
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1310
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 462
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 750
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5623

Boards


XE Login