질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88015 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18736
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66688
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88015
338 Plasma etcher particle 원인 [1] 2420
337 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2346
336 질문있습니다. [1] 2329
335 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2323
334 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2318
333 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2316
332 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2303
331 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2300
330 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2283
329 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2282
328 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2243
327 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2240
326 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2231
325 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2225
324 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 2209
323 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2196
322 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2188
321 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2182
320 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 2168
319 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2123
쓰기
태그

Boards

XE Login