질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92694 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
337 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1820
336 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1808
335 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1771
334 터보펌프 에러관련 [1] 1769
333 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1760
332 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1750
331 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1707
330 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1706
329 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1702
328 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1692
327 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1676
326 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1673
325 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1670
324 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1670
323 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1640
322 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1626
321 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1623
320 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1608
319 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
318 plasma 형성 관계 [1] 1548

Boards


XE Login