질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88011 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18736
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66686
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88011
258 고온 플라즈마 관련 8056
257 안녕하세요 교수님. [1] 8791
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8523
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 12828
254 MFP에 대해서.. [1] 7729
253 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6527
252 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7623
251 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10072
250 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8010
249 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23972
248 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15800
247 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15686
246 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 20635
245 cross section 질문 [1] 19473
244 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 28600
243 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17353
242 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21016
241 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24572
240 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22536
239 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19737

Boards


XE Login