질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92607 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76850
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20257
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68746
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92607
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6083
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2505
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3945
314 Ar plasma power/time [1] 1439
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4046
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17510
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7252
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1958
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11461
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4198
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1918
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3057
303 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4291
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1224
301 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1853
300 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1693
299 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3834
298 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3167

Boards


XE Login