질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92819 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77026
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20352
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57274
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68819
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92819
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1427
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5410
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6067
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8627
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6107
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2524
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3986
314 Ar plasma power/time [1] 1448
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4069
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17576
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7293
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1966
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11517
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4233
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1921
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3065
303 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4322
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1230

Boards


XE Login