질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76861 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20264 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68750 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92651 |
| 256 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9043 |
| 255 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
| 254 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13065 |
| 253 | MFP에 대해서.. [1] | 7829 |
| 252 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6570 |
| 251 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7704 |
| 250 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10317 |
| 249 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8126 |
| 248 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24351 |
| 247 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15886 |
| 246 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15811 |
| 245 | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22185 |
| 244 | cross section 질문 [1] | 19720 |
| 243 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29274 |
| 242 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17726 |
| 241 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21200 |
| 240 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24761 |
| 239 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22702 |
| 238 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19842 |