질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93943 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57866
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69399
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93943
781 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 218
780 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 220
779 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 220
778 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 222
777 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 227
776 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 229
775 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 241
774 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 243
773 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 244
772 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 245
771 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 246
770 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 251
769 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 252
768 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 255
767 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 256
766 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 285
765 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 297
764 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 298
763 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 301
762 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 306

Boards


XE Login