안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76694
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
107 핵융합 질문 [1] 567
106 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 558
105 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 550
104 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
103 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
102 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
101 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 543
100 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 540
99 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 537
98 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 527
97 self bias [1] 526
96 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 516
95 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 512
94 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 499
93 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 499
92 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 497
91 PECVD Uniformity [1] 492
90 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 487
89 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
88 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 483

Boards


XE Login