질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92610 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76852
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20261
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57193
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92610
37 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 211
36 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 204
35 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 203
34 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 190
33 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 187
32 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 183
31 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 182
30 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 177
29 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 173
28 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 173
27 corona model에 대한 질문입니다. [1] 170
26 skin depth에 대한 이해 [1] 163
25 ICP에서 전자의 가속 [1] 152
24 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 152
23 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 144
22 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 139
21 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 135
20 Microwave & RF Plasma [1] 132
19 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 132
18 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 117

Boards


XE Login