질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75784 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19468 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56676 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68064 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90356 |
| 698 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24186 |
| 697 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24104 |
| 696 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24054 |
| 695 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 23967 |
| 694 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23885 |
| 693 | 플라즈마 쉬스 | 23821 |
| 692 | self Bias voltage | 23815 |
| 691 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23612 |
| 690 | Arcing | 23585 |
| 689 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23349 |
| 688 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23247 |
| 687 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23214 |
| 686 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23191 |
| 685 | DC glow discharge | 23143 |
| 684 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23017 |
| 683 | No. of antenna coil turns for ICP | 23002 |
| 682 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22934 |
| 681 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22877 |
| 680 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22790 |
| 679 | CCP/ICP , E/H mode | 22712 |