질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91340 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76426
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19992
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91340
716 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24271
715 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24167
714 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24134
713 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24116
712 self Bias voltage 23947
711 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23942
710 플라즈마 쉬스 23898
709 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23689
708 Arcing 23688
707 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23407
706 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23342
705 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23308
704 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23236
703 DC glow discharge 23191
702 고온플라즈마와 저온플라즈마 23085
701 No. of antenna coil turns for ICP 23052
700 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23014
699 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22921
698 CCP/ICP , E/H mode 22862
697 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22828

Boards


XE Login