질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105794 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24676
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61390
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73459
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105794
753 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23257
752 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23101
751 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23083
750 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22952
749 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22905
748 Peak RF Voltage의 의미 22850
747 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22818
746 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22808
745 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22710
744 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22543
743 플라즈마의 발생과 ICP 22327
742 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22243
741 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22217
740 플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응] 22139
739 펄스바이어스 스퍼터링 답변 22080
738 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22031
737 ccp-icp 21964
736 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21926
735 F/S (Faraday Shield) file 21849
734 manetically enhanced plasmas 21766

Boards


XE Login