질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92771 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76942
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20312
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57232
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68783
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92771
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2029
103 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1530
102 터보펌프 에러관련 [1] 1773
101 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1421
100 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2591
99 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1306
98 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 473
97 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1678
96 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2364
95 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1196
94 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
93 etching에 관한 질문입니다. [1] 2275
92 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5487
91 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1442
90 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2346
89 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2348
88 플라즈마 색 관찰 [1] 4319
87 PR wafer seasoning [1] 2707
86 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1815
85 ICP 후 변색 질문 737

Boards


XE Login