질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88170 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [181] 74898
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18754
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56234
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66729
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88170
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 966
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 559
617 anode sheath 질문드립니다. [1] 692
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 586
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 542
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1275
613 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1349
612 라디컬의 재결합 방지 [1] 588
611 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1258
610 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1123
609 전자 온도 구하기 [1] file 803
608 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 271
607 CVD 공정에서의 self bias [1] 2054
606 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2996
605 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 693
604 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1711
603 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1122
602 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 807
601 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 711
600 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1090
쓰기
태그

Boards

XE Login