질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [273] | 76809 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20240 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92569 |
| 674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1194 |
| 673 | Plasma Arching [1] | 1061 |
| 672 | Polymer Temp Etch [1] | 669 |
| 671 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1]  | 1007 |
| 670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 477 |
| 669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1410 |
| 668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1245 |
| 667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 449 |
| 666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 813 |
| 665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 887 |
| 664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 821 |
| 663 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] | 5005 |
| 662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1247 |
| 661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 692 |
| 660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 607 |
| 659 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1453 |
| 658 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 485 |
| 657 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1083 |
| 656 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 594 |
| 655 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1010 |