반도체 공정과 관련하여 DIFF 공정 진행 간, TEMP와 RF 간에 상관 관계가 궁금하여 문의 드립니다.

NH3의 분해와 관련하여 상온 기준 RF POWER를 인가한다고 했을때 분해 가능한 수준이 어느 정도인지 궁금합니다.(W 기준)

그리고 추가로 문의 드리고 싶은 사항은 TEMP와 RF 간에 상관 관계입니다. TEMP가 변화하는 정도에 따른 RF의 변화 정도가 어떻게 되는지 궁금해서 문의 드립니다.

정답이 힘들다면 참고 및 이해할 수 있는 답변을 좀 부탁 드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 833
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4149
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1118
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 974
645 plasma 형성 관계 [1] 1517
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2919
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3414
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4809
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2016
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1113
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1270
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1677
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1345
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1169
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1608
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 715
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2314
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1518
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450

Boards


XE Login