질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92559 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] 76805
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20239
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57185
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92559
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2330
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1523
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1346
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2064
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8730
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3552
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 14799
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1339
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1014
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 868
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2278
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1535
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1378
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 710
617 anode sheath 질문드립니다. [1] 990
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 728
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 713
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1463
613 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1996

Boards


XE Login