안녕하세요. 교수님.

국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.

설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.


1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.

  

2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,

    가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.


항상 도움이되는 답변감사드립니다.

즐거운 하루 보내세요.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5808
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17215
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53072
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64487
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85101
538 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 835
537 고진공 만드는방법. [1] 838
536 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 841
535 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 841
534 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 843
533 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 846
532 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 848
531 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 852
530 공정플라즈마 [1] 856
529 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 861
528 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 861
527 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 867
526 wafer bias [1] 872
525 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 878
524 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 878
523 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 878
522 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 879
521 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 880
520 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 881
519 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 890

Boards


XE Login