안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102651
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24665
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61369
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73446
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105758
673 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 948
672 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 951
671 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 951
670 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 952
669 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 953
668 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [Sheath impedance] [1] 954
667 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [전극 설계 및 방전기 운전 모드 개발] [1] 965
666 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 965
665 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 970
664 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 976
663 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1004
662 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 1006
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation] [1] 1009
660 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다. [Corona breakdown, current density] [1] 1010
659 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1013
658 RF 파워서플라이 매칭 문제 1015
657 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1021
656 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 1023
655 RF magentron sputtering시 플라즈마 off 현상 [Sputter 문제] [1] 1033
654 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1033

Boards


XE Login