질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:88346 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75026
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18869
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66862
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88346
24 plasma striation 관련 문의 [1] file 318
23 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 331
22 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 454
21 라디컬의 재결합 방지 [1] 588
20 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 650
19 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 658
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 698
17 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 715
16 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 876
15 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 891
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1129
13 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1390
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1857
11 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 2236
10 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2947
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7456
8 CCP 의 electrode 재질 혼동 16330
7 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16397
6 capacitively/inductively coupled plasma 17621
5 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18821
쓰기
태그

Boards

XE Login