Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:6282

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76840
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20252
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
22 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2347
21 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2448
20 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2505
19 임피던스 매칭회로 [1] file 2818
18 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3948
17 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5084
16 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5824
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6282
14 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7104
13 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8546
12 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9866
11 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10397
10 Virtual Matchng 16855
9 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19219
8 플라즈마 matching 20248
7 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21198
6 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22582
5 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23339
4 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27639
3 matching box에 관한 질문 [1] 29679
쓰기
태그

Boards

XE Login