질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105965 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103374
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24719
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61541
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73525
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105965
534 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1650
533 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1657
532 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1668
531 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1671
530 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1673
529 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1675
528 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1677
527 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1681
526 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1698
525 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1707
524 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1714
523 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1717
522 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1736
521 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1740
520 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1742
519 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1747
518 MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1757
517 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1764
516 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1767
515 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1770
쓰기
태그

Boards

XE Login