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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
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512 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1785 |
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511 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1788 |
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510 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1797 |
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509 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1801 |
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508 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection]
[1] | 1816 |
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507 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1829 |
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506 |
알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1829 |
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505 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1841 |
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504 |
데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성]
[1] | 1847 |
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503 |
charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1854 |
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반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1860 |
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501 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1867 |
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Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1872 |
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Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1874 |
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498 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
[1]  | 1892 |
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497 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1899 |
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496 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1900 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1918 |
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494 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1933 |
