Etch Plasma etch관련 질문이 드립니다.
2020.05.22 08:28
안녕하세요. 교수님.
국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.
설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.
1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.
2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,
가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.
항상 도움이되는 답변감사드립니다.
즐거운 하루 보내세요.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76865 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20266 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68750 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92678 |
557 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1132 |
556 | wafer bias [1] | 1137 |
555 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1137 |
554 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1142 |
553 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1143 |
552 | 자기 거울에 관하여 | 1145 |
551 | 전자 온도 구하기 [1] | 1148 |
550 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1151 |
549 | 공정플라즈마 [1] | 1156 |
548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1164 |
547 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1171 |
546 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1171 |
545 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1172 |
544 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1181 |
543 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1184 |
542 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1190 |
541 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1191 |
540 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1194 |
539 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1205 |
538 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1213 |