안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2299
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12785
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49614
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61090
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78482
659 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 18
658 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 35
657 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 59
656 etch defect 관련 질문드립니다 72
655 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 87
654 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 109
653 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 116
652 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 144
651 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 146
650 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 150
649 doping type에 따른 ER 차이 [1] 155
648 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 167
647 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 168
646 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 201
645 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 202
644 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 202
643 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 214
642 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 219
641 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 222
640 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 233

Boards


XE Login