질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:86013 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72996
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17585
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65686
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86013
425 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1661
424 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1663
423 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1672
422 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1677
421 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1696
420 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1696
419 CVD 공정에서의 self bias [1] 1707
418 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1709
417 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1742
416 etching에 관한 질문입니다. [1] 1755
415 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1776
414 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1782
413 chamber impedance [1] 1790
412 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1795
411 가입인사드립니다. [1] 1815
410 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1826
409 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1840
408 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1848
407 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1857
406 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1866

Boards


XE Login