Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1886

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films31(5), 050825.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91267
476 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1560
475 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1560
474 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1573
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1577
472 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1584
471 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1610
470 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1627
469 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1643
468 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1645
467 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1653
466 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1667
465 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669
464 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1669
463 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1675
462 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1694
461 터보펌프 에러관련 [1] 1722
460 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1729
459 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1731
458 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1760
457 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1772

Boards


XE Login