Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제
2019.03.28 15:12
안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.
요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.
특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다.
리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...
혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20847 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
519 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1426 |
518 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1426 |
517 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] ![]() | 1430 |
516 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1448 |
515 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1453 |
514 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1456 |
513 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
![]() | 1457 |
512 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1461 |
511 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1465 |
510 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1473 |
509 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1477 |
508 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1478 |
507 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1482 |
506 | Ar plasma power/time [1] | 1483 |
505 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1484 |
504 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1488 |
503 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1491 |
502 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1496 |
501 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1502 |
500 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1503 |
소자의 식각 데미지에 대해서는 아마도 성균관대학교 염근영교수님께서 답변을 주실 수 있으실 것 같습니다.