질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92520 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76794
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20231
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68724
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92520
491 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1463
490 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1463
489 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1464
488 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1465
487 charge effect에 대해 [2] 1466
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1500
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1506
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1509
483 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1521
482 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1523
481 plasma 형성 관계 [1] 1532
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1535
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1565
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1604
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1609
476 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1615
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1624
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1654
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1664
472 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1665
쓰기
태그

Boards

XE Login