질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20846 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
| 399 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2575 |
| 398 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2612 |
| 397 | 질문있습니다. [1] | 2621 |
| 396 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1]  | 2624 |
| 395 | Si Wafer Broken [2] | 2631 |
| 394 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2651 |
| 393 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2726 |
| 392 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2734 |
| 391 | PR wafer seasoning [1] | 2740 |
| 390 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2763 |
| 389 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2785 |
| 388 |
임피던스 매칭회로
[1] | 2884 |
| 387 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2904 |
| 386 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2907 |
| 385 | HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? | 2943 |
| 384 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2979 |
| 383 | HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] | 2985 |
| 382 | [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] | 3029 |
| 381 | Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] | 3111 |
| 380 | Plasma etcher particle 원인 [1] | 3120 |