안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76932
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57226
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68777
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92755
760 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 226
759 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 229
758 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 229
757 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
756 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 255
755 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 258
754 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 264
753 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 271
752 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 275
751 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 287
750 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 288
749 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 302
748 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 313
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 322
746 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 324
745 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 325
744 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 326
743 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 329
742 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 333
741 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 342

Boards


XE Login