질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [99] | 3633 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 15314 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 50570 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 62981 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 82016 |
| 608 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23005 |
| 607 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 22980 |
| 606 | Arcing | 22920 |
| 605 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 22918 |
| 604 | self Bias voltage | 22760 |
| 603 | No. of antenna coil turns for ICP | 22741 |
| 602 | DC glow discharge | 22723 |
| 601 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 22691 |
| 600 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22677 |
| 599 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22521 |
| 598 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 22514 |
| 597 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 22503 |
| 596 | plasma와 arc의 차이는? | 22478 |
| 595 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22349 |
| 594 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] | 22349 |
| 593 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22347 |
| 592 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22300 |
| 591 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22270 |
| 590 | Peak RF Voltage의 의미 | 22098 |
| 589 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22028 |