질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93945 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
88 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 1952
87 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 1951
86 가입인사드립니다. [1] 1910
85 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 1852
84 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1735
83 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1728
82 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1727
81 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1687
80 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1682
79 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1634
78 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1619
77 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1616
76 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1605
75 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1518
74 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1503
73 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1454
72 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1446
71 수방전 플라즈마 살균 관련.. 문의 드립니다. [플라즈마 기술 센터 문의] [1] 1429
70 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1412
69 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1403
쓰기
태그

Boards

XE Login