질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93945 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
481 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4417
480 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 4333
479 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4260
478 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4244
477 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4241
476 RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage] [2] 4221
475 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4212
474 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4178
473 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4054
472 Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4040
471 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4014
470 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 3996
469 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 3942
468 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 3920
467 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 3883
466 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 3875
465 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 3814
464 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 3789
463 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 3739
462 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3733
쓰기
태그

Boards

XE Login